内部加工|加工事例

GaN(窒化ガリウム)

  • 材料:GaN(窒化ガリウム)
  • 加工内容:内部加工(スライシング)
  • 波長:1030 nm
  • パルス幅:フェムト秒
  • 結果:基板の厚さ方向中央付近に改質層を生成し、上下方向引っ張ることで剥離(ウエハ化)できる

加工結果

レーザースライス 顕微鏡写真
レーザー照射前材料<クリックで拡大表示>

レーザースライス 顕微鏡写真
レーザー照射後材料<クリックで拡大表示>

レーザースライス 顕微鏡写真(断面)
基板の側面画像<クリックで拡大表示(位置データ付き)>

SiC(炭化ケイ素)

  • 材料:SiC(炭化ケイ素)
  • 加工内容:内部加工(スライシング)
  • 波長:1030 nm
  • パルス幅:フェムト秒
  • 結果:基板の厚さ方向中央付近に改質層を生成し、上下方向引っ張ることで剥離(ウエハ化)できる

加工結果

加工前(上面)

SiC(炭化ケイ素)_上面_加工前
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加工後(上面)

SiC(炭化ケイ素)_上面_加工後
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加工前(側面)

SiC(炭化ケイ素)_側面_加工前)
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加工後(側面)

SiC(炭化ケイ素)_側面_加工後
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PMMA(アクリル)

  • 材料:PMMA(アクリル)
  • 加工内容:内部加工(グレーティング)
  • 波長:1030 nm
  • パルス幅:フェムト秒
  • 結果:樹脂内部に加工痕を生成し、表面の傷や汚れに影響されず意匠性の付与が可能
PMMA(アクリル)内部加工
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PC(ポリカーボネート)

  • 材料:PC(ポリカーボネート)
  • 加工内容:内部加工
  • 波長:1030 nm
  • パルス幅:フェムト秒
  • 結果:樹脂の内部に加工痕を生成し、表面の傷や汚れに影響されず意匠性の付与が可能
PC(ポリカーボネート)
<クリックで拡大表示>

ソーダガラス

  • 材料:ソーダガラス
  • 加工内容:内部加工
  • 波長:1030 nm
  • パルス幅:フェムト秒
  • 結果:ガラスの内部に加工痕を生成し、表面の傷や汚れに影響されず意匠性の付与が可能
ソーダガラス内部加工
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石英ガラス

  • 材料:石英ガラス
  • 加工内容:内部加工
  • 波長:1030 nm
  • パルス幅:フェムト秒
  • 結果:ガラスの内部に加工痕を生成し、表面の傷や汚れに影響されず意匠性の付与が可能
石英ガラス内部加工
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ホウケイ酸ガラス

  • 材料:ホウケイ酸ガラス
  • 加工内容:内部加工
  • 波長:1030 nm
  • パルス幅:フェムト秒
  • 結果:ガラスの内部に加工痕を生成し、表面の傷や汚れに影響されず意匠性の付与が可能
ホウケイ酸ガラス内部加工
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光響製品

  • 超高精密フェムト秒レーザー加工機

    フェムト秒レーザー加工機

    超短パルスレーザーであるフェムト秒レーザーを用いて加工する加工機。コールドアブレーション(非熱加工)による微細な加工が可能です。

  • レーザーマーカー

    レーザーマーカー

    レーザーで印字・刻印するレーザーマーカー。製品識別やトレサビに。小型でインラインへの導入も簡単です。