分布帰還型レーザ(DFB)

分布帰還型(DFB)レーザーは、その安定性と純粋なシングルモード出力で知られる優れた端面発光型半導体光源であり、フォトニクス分野における重要なコンポーネントとなっています。

FPレーザーやDBRレーザーとは異なり、Inphenix社の分布帰還型(DFB)レーザーは、活性領域に精密に設計された回折格子を組み込むことで、卓越した性能を実現しています。この設計により、高いサイドモード抑圧比(SMSR)が確保されるだけでなく、広い温度範囲にわたる安定した動作、狭い線幅、そして光帰還に対する低感度といった特性も実現されています。

Inphenix社の分布帰還型(DFB)レーザー技術は、高い精度と信頼性が求められる様々な用途において、重要な基盤となっています。

DFBレーザーが本来備える安定性は、高度な技術分野において不可欠な、クリーンなシングルモード出力を実現します。InphenixのDFBレーザーは、シンプルかつ費用対効果の高い製造プロセスにより、品質を損なうことなく優れた性能を確保できるため、極めて有利な選択肢となります。

安定性とクリーンなモード出力を標準とする、Inphenixの分布帰還型(DFB)レーザー技術の卓越した性能をご体験ください。

Inphenix社のDFBレーザーは、極めて高い精度が求められる用途に不可欠な「高いサイドモード抑圧比」において、業界のベンチマークとなる性能を実現しています。

1520 nm分布帰還型レーザーダイオードデバイス

分布帰還型レーザ

IPDFD1501

特徴

  • 高出力
  • 狭線幅
  • 高いサイドモード抑圧比

アプリケーション

  • 光学センサー

デバイス仕様

パラメータ Symbol Min. Typ. Max. 単位 試験条件
閾値電流 Ith 25 mA CW
動作電流 Iop 100 mA CW, Pf= Pop
出力電力 Pop 5 mW CW, I= Iop
斜面効率 Se 0.15 W/A CW, Pf= Pop
順電圧 Vf V CW, Pf= Pop
ピーク波長 λp 1505 1523 nm CW, Pf= Pop
スペクトル幅 Δλ 0.2 nm CW, Pf= Pop, 20 dB down
ピーク波長ドリフト nm/℃ CW, Pf= Pop
サイドモード抑制比 SMSR 35 dB CW, Pf= Pop

DFBレーザーの設計と機能

Inphenix社の分布帰還型(DFB)レーザーに組み込まれた高度な回折格子は、単一かつ安定した波長を放射し、効率的な光源として機能する上で極めて重要です。

この重要な機能は、目的のレーザー発振波長において選択的なフィードバックを提供します。これにより、不要なモードを効果的に抑制し、信号変調を改善して、高いSMSR(サイドモード抑圧比)を実現します。これは、正確かつ安定した波長出力が不可欠な光干渉断層撮影(OCT)などの用途において、特に重要な要素です。

高いSMSRはノイズを大幅に低減し、よりクリーンな信号を確保するとともに、DFBレーザーの全体的な性能を向上させます。

Inphenixの高品質かつ低感度な分布帰還型(DFB)レーザー技術をご活用ください。この技術は、要求の厳しいフォトニクス用途において最適な性能を発揮するよう、精密に設計されています。

分布帰還型(DFB)レーザーの主な用途

分布帰還型(DFB)レーザーは、高い精度と揺るぎない安定性が求められる幅広い用途において不可欠な存在です。

  • 光干渉断層撮影(OCT):DFBレーザー(分布帰還型レーザー)の精密な波長制御と卓越した安定性は、医療診断、特に眼科において極めて重要な非侵襲的イメージング技術であるOCTに最適です。
  • 通信:DFBレーザーが持つ狭い線幅と高い安定性は、現代の光ファイバー通信における高速かつ長距離のデータ伝送に不可欠な要素です。
  • 分光法:安定した単一波長を出力できるDFBレーザーの特性は、高分解能な分光アプリケーションに最適です。
  • センシング:DFBレーザーの狭い線幅と低ノイズ特性は、高度な環境モニタリングや精密なガスセンシングなど、多岐にわたるセンシング用途において大きな利点となります。

Inphenix社製分布帰還型(DFB)レーザーの利点

Inphenix社の分布帰還型(DFB)レーザー製品は、シンプルかつ低コストな製造プロセスを特徴としており、光干渉断層撮影(OCT)をはじめとする数多くのフォトニクス・アプリケーションにおいて、有利な選択肢となっています。

Inphenix社のDFBレーザーは精密な波長制御を実現し、変調特性、ピーク波長、閾値電流、出力パワーといった特定の動作要件に合わせて、多様な構成で提供されています。その優れた性能と費用対効果の高さから、研究者やエンジニアの皆様に選ばれています。

  • 製造プロセス:Inphenix社の分布帰還型(DFB)レーザーは、シンプルかつコスト効率に優れた製造プロセスを採用しており、妥協のない品質を維持しつつ、大規模な生産が可能です。
  • カスタマイズ:Inphenix社はDFBレーザーを多様な構成で提供しており、ユーザーは独自のニーズに合わせて最適な仕様を選択できます。
  • 性能:狭い線幅、高いSMSR(サイドモード抑圧比)、変調機能、そして広範囲な温度領域での安定した動作を特長とし、Inphenix社のDFBレーザーは常に優れた性能を発揮します。

Inphenix DFBレーザーの技術仕様

Inphenix社の分布帰還型(DFB)レーザー製品の技術仕様は以下の通りです。

  • 波長範囲:Inphenix社の分布帰還型(DFB)レーザーは、特定の用途要件に合わせて精密に調整された、様々な波長での動作が可能なようカスタム設計できます。
  • 狭線幅:高精度な用途に不可欠な狭線幅により、スペクトル幅を最小限に抑え、信号の明瞭さを向上させます。
  • 高いSMSR:DFBレーザーの出力が主に単一モードであることを保証し、ノイズを効果的に低減するとともに、信号品質を大幅に向上させます。
  • 出力:多様な用途要件に合わせて出力レベルを設定可能であり、あらゆるDFBレーザーにおいて柔軟性と最適な性能を実現します。