Huarayについて
Huarayはハイエンドレーザーの専門メーカーです。
固体レーザーとファイバーレーザーの2つの主要なレーザー部門を持ち、市場の需要に応じて新製品の研究開発を行っています。
産業用フェムト秒ファイバーレーザー
HR-Femto-50 産業用フェムト秒ファイバーレーザー
HR-femto 50シリーズは、実績と信頼性の高い、全天候型のフェムト秒レーザーです。パルス幅は350fs以下。必要に応じてパルス周波数を分割するパルスセレクターなど、多彩なバーストモードの組み合わせが可能です。
耐火物材料の微細加工、透明材料の切断・溶接、高分子材料の加工・処理、医療機器の製造、薄膜材料の加工などに幅広く利用できます。
耐火物材料の微細加工、透明材料の切断・溶接、高分子材料の加工・処理、医療機器の製造、薄膜材料の加工などに幅広く利用できます。
特徴
- <350fs～5psのパルス幅を調整可能
- 複数のバーストモードをサポート
- POD用パルスピッカー搭載 頑丈な工業用機械設計
- オプションのSHG/THGモジュール
用途
- 硬くて脆い材料の加工と溶接
- 複合膜材料の加工
- 新エネルギー材料の加工
- 難加工の金属加工
- 高分子材料加工
- 医療機器製造
仕様
| 製品 | HR-Femto-IR-50-40 | HR-Femto-IR-80-60 | HR-Femto-GN-25-20 | HR-Femto-GN-30-24 |
|---|---|---|---|---|
| 波長 | 1035nm | 1035nm | 517nm | 1035nm |
| 平均パワー | 40W | 60W | 20W | 24W |
| パルスエネルギー | 50 μJ @ 800 kHz | 80 μJ @ 750 kHz | 25 μJ @ 800 kHz | 30 μJ @ 750 kHz |
| パルス持続時間 | <350 fs ～ 5 ps | <350 fs ～ 5 ps | <350 fs ～ 5 ps | <350 fs ～ 5 ps |
| バーストエネルギー | 200μJ | 320μJ | 100μJ | 120μJ |
| 最大電力 | >140MW | >140MW | >70MW | >110MW |
| リピート率 | Single shot to 1 MHz | Single shot to 1 MHz | Single shot to 1 MHz | Single shot to 1 MHz |
| ビーム品質 | M2≤1.3 | M2≤1.3 | M2≤1.3 | M2≤1.3 |
| ビーム発散 | <1 mrad,2θ | <1 mrad,2θ | <1 mrad,2θ | <1 mrad,2θ |
| ビーム円形 | ≥90% | ≥90% | ≥90% | ≥90% |
| ビーム径 | 3 ±1 mm, 1/e2 | 3 ±1 mm, 1/e2 | 3 ±1 mm, 1/e2 | 3 ±1 mm, 1/e2 |
| 偏光状態 | 線形 | 線形 | 線形 | 線形 |
| パルス安定性 | <2% RMS | <2% RMS | <2% RMS | <2% RMS |
| 電力安定性 | <2% RMS | <2% RMS | <2% RMS | <2% RMS |
| 動作温度 | 10 to 30 °C | 10 to 30 °C | 10 to 30 °C | 10 to 30 °C |
HR-Femto-10 産業用フェムト秒ファイバーレーザー
HR-Femto-10シリーズは、商業用、科学研究用、生命科学用、レーザー計測用、イメージング用のフェムト秒レーザー製品です。
ワンボックスデザイン。
SHGとGreen/IRの切り替えが可能な外付けボックス。
本製品は、マーキング、多光子イメージング、3Dマイクロ・ナノ・プリンティング、リソグラフィー直描、光ストレージなどに幅広く使用できます。
ワンボックスデザイン。
SHGとGreen/IRの切り替えが可能な外付けボックス。
本製品は、マーキング、多光子イメージング、3Dマイクロ・ナノ・プリンティング、リソグラフィー直描、光ストレージなどに幅広く使用できます。
特徴
- 光学機器と電子機器の一体型
- ワンボタン操作
- 最大10μJのパルスエネルギーに対応 最大10μJのパルスエネルギーに対応
- 光アイソレータ内蔵
- 直線偏光出力
- モニタリング用受光素子内蔵
- リモートコントロール、メンテナンスフリー
用途
- 多光子イメージング
- 光の遺伝
- 眼科手術
- 組織の切除
- 3Dマイクロ・ナノプリント
- 直描リソグラフィー
- 光ストレージ
仕様
| 製品 | HR-Femto-IR-10-10 | HR-Femto-GN-4-4 |
|---|---|---|
| 波長 | 1035nm | 517nm |
| 平均パワー | 10W | 4W |
| パルスエネルギー | 10 μJ @ 1 MHz | 4 μJ @ 1 MHz |
| パルス持続時間 | <400 fs | <400 fs |
| 最大電力 | >25 MW | >10 MW |
| リピート率 | Single Shot to 2 MHz | Single Shot to 2 MHz |
| ビーム品質 | M2≤1.3 (Typical <1.2) | M2≤1.3 (Typical <1.2) |
| ビーム発散 | <1 mrad,2θ | <1 mrad,2θ |
| ビーム円形 | ≥90% | ≥90% |
| ビーム径 | 3 ±1 mm, 1/e2 | 3 ±1 mm, 1/e2 |
| 偏光状態 | 線形 | 線形 |
| パルス安定性 | <2% RMS | <2% RMS |
| 電力安定性 | <2% RMS | <2% RMS |
| 動作温度 | 10 to 30 °C | 10 to 30 °C |
HR-Femto-200フェムト秒ファイバーレーザー
HR-Femto 200シリーズは、安定した信頼性の高いフェムト秒パルスファイバーレーザーです。
このシリーズの製品は光と電気の統合設計を採用し、パルス幅は350fs以下、単一パルスのエネルギーは最大200μJ、バーストモードモードをサポートいます。半導体ウェハーの加工、ガラスなどの硬脆材料の加工や溶接、高分子材料の加工・処理、医療機器の製造、セラミックスやポリマーの加工などに幅広く使用することができます。
このシリーズの製品は光と電気の統合設計を採用し、パルス幅は350fs以下、単一パルスのエネルギーは最大200μJ、バーストモードモードをサポートいます。半導体ウェハーの加工、ガラスなどの硬脆材料の加工や溶接、高分子材料の加工・処理、医療機器の製造、セラミックスやポリマーの加工などに幅広く使用することができます。
特徴
- >200μJ以上のパルスエネルギー
- <350fs以下のパルス幅
- バーストモード対応
- 光と電気の統合デザイン
- ワンボタン操作
- 光絶縁素子内蔵
- パルスセレクター内蔵
用途
- 硬質・脆性材料の加工・溶接
- 複合膜材料の加工
- 新エネルギー材料の加工
- 難易度の高い金属加工
- 高分子材料加工
- 医療機器製造
仕様
| 製品 | HR-Femto-IR-200-35 |
|---|---|
| 波長 | 1035nm |
| 平均パワー | 35W |
| パルスエネルギー | 200 μJ @ 175 kHz |
| パルス持続時間 | <350 fs |
| 最大電力 | >570MW |
| リピート率 | Single shot to 1 MHz |
| ビーム品質 | M2≤1.3 |
| ビーム発散 | <1 mrad,2θ |
| ビーム円形 | ≥85% |
| ビーム径 | 4 ±2 mm, 1/e2 |
| 分極比 | > 100:1 |
| 偏光状態 | 線形 |
| パルス安定性 | <2% RMS |
| 電力安定性 | <2% RMS |
| 動作温度 | 10 to 30 °C |
| 外部通信 | RS-232, Ethernet, USB |