Altechna – Laser Accessories

電動ビームエキスパンダー（MBE）は、自動化されたアプリケーション向けに設計された精密ビームエキスパンダーです。このデバイスは、操作中に倍率を調整するだけでなく、迅速で独立した発散を可能にします。MBEは、高いポインティング安定性と拡張精度を備えています。

さらに、製品の高い膨張再現性と寿命は、頻繁な校正と交換を回避できるため、アプリケーションの効率を高めるのに役立ちます。さらに、MBE光学設計により、内部焦点がないため、高出力レーザーアプリケーションで使用できます。

特徴

• 高いポインティング安定性：<100 µrad
• 高い膨張再現性：±0.6％
• 長い耐用年数：> 360万サイクル
• ハイパワーアプリケーションに適しています

仕様

拡張範囲	1x(1.1x)*-5.5x
ポインティング安定性	<100 µrad
24時間年中無休の拡張再現性	±0.6%
膨張精度	<±5%
動作速度	<1 sec from min to max
長いビーム経路に最適	>2 meters propagation
最小耐用年数	>3500 hours of non-stop operation
透過率	>98% (>99% on request)
制御インターフェース	RS232, USB, LAN

可変ビームエキスパンダーは、さまざまな倍率とレーザービーム発散の正確な制御が必要なシステムに最適です。

ゴースト反射を最小限に抑える高いポインティング安定性と高いLIDTARコーティングを備えた可変ビームエキスパンダーを提供しています。当社の可変ビームエキスパンダーは、個々の倍率と発散の調整を可能にします。希望のビームサイズと発散に達したら、2セットのネジで位置をロックできます。

デザインはコンパクトで、産業環境に適しています。ビームの楕円率、M²、およびポインティング安定性パラメータの個別のレポートは、リクエストに応じて提供できます。お客様のシステム設計に応じて、中央の取り付けアダプター、入力および出力は、ご要望に応じてご利用いただけます。

特徴

• 個々のビームの楕円率のレポート、M²及びポインティング安定性パラメータ
• 入力、出力、および中間の取り付けアダプターは、ご要望に応じてご利用いただけます
• UVアプリケーション向けの長寿命とLIDT
• システム全体の高LIDT：> 6.5 J / cm² @ 1064 nm、10 ns、
• 100 Hz（1x〜4xモデルの場合）

仕様

波長範囲	266 – 1064 nm
拡張	1x-4x or 2x-8x
ポインティング安定性	<1 mrad
レンズ素材	UVFS
透過波面歪み, P-V	<λ /4 @ 632.8 nm
全体的な伝達	>97% (>99% on request)
取付ねじ（入力側）	SM1
取付ねじ（出力側、ご要望に応じて）	M42 x 1.5 (外側), SM1 (内側)
2x-8xモデルのLIDT	>5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 100 Hz
1x-4xモデルのLIDT	>6.5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 100 Hz

固定比率ビームエキスパンダーは、レーザービームの直径を大きくするための専用デバイスです。

アルテクナのビームエキスパンダーは、1つの発散レンズと1つの収束レンズを使用して組み立てられます。ビームエキスパンダーの内部には焦点がないため、高出力レーザー光源で使用できます。エキスパンダーの寿命とLIDTを改善するために、UVアプリケーション用にレンズと機構の特別な処理が行われます。標準倍率は1.1倍から5倍です。ご要望に応じて、266〜1064nmの任意の波長のビームエキスパンダーをご利用いただけます。

特徴

• ご要望に応じてカスタム倍率とデザイン
• UVアプリケーション向けの長寿命とLIDT
• ビーム楕円率、M2およびポインティング安定性パラメータの個々のレポート
• カスタム波長は266-1064nmの範囲で利用可能です

仕様

波長範囲	266 – 1064 nm
典型的な拡張	From 1.1x to 5x
レンズ素材	UVFS
透過波面歪み, P-V	<λ /4 @ 632.8 nm
全体的な伝達	>98%
取り付けネジ	SM1
LIDT	>10 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz

高エネルギー用途向けに4種類のレーザービーム強度減衰器を提供しています。

• CA 8 mm –コンパクトバージョン
• CA 18 mm –マキシ反射/透過バージョン
• CA 18 mm –マキシキューブバージョン
• CA 18 mm –マキシトランスミッションコリニアバージョン

特徴

• ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェース、USB、RS232、イーサネット接続
• レーザービームを調整可能な強度比の2つのs-polビームとp-polビームに分割します
• 超短および高エネルギーレーザーパルス用の低分散光学系
• 他のシステムへの統合に最適
• 0.2秒未満の最小減衰と最大減衰の間の時間

*伝送/コリニアバージョンの減衰範囲：
T _max（開いているとき）：> 95％; T _min（閉じたとき）：<0.5％
*反射バージョンの減衰範囲：
T _max（開いているとき）：> 95％; T _min（閉じたとき）：<0.5％（P-pol出力）
T _max（開いているとき）：> 99％; T _min（閉じたとき）：<0.3％（S-pol出力）
*キューブバージョンの減衰範囲：
T _max（開いているとき）：> 97％、T _min（閉じているとき）：<0.3％（P-pol出力）
T _max（開いているとき）：> 99％、T _min（閉じているとき）：<3％（S-pol出力）

仕様

クリアアパーチャ	Ø18 mm
1 / Eの推奨される最大入力ビーム径2	Ø12 mm
帯域幅	Up to ±5 nm, up to ±10 on request
最適化	トランスミッション
構成	λ/2 Air-spaced or High Energy Optically Bonded waveplate + TFP and Compensating Window
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	Up to 0.5-95%
代表的なアプリケーション	High power CW and pulsed lasers
ダメージしきい値	Up to 10 J/cm² @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
寸法（H x L x W）	56 x 144 x 90 mm
最小減衰と最大減衰の間の時間	<0.2 sec
最小減衰と最大減衰の間のステップ	24000
解像度	<7 arcsec/step
送信タイプの減衰範囲	Tmax (when open): >95%; Tmin (when closed): <0.5%

高エネルギー用途向けに4種類のレーザービーム強度減衰器を提供しています。

• CA 8 mm –コンパクトバージョン
• CA 18 mm –マキシ反射/透過バージョン
• CA 18 mm –マキシキューブバージョン
• CA 18 mm –マキシトランスミッションコリニアバージョン

特徴

• ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェース、USB、RS232、イーサネット接続
• レーザービームを調整可能な強度比の2つのs-polビームとp-polビームに分割します
• 超短および高エネルギーレーザーパルス用の低分散光学系
• 他のシステムへの統合に最適
• 0.2秒未満の最小減衰と最大減衰の間の時間

*伝送/コリニアバージョンの減衰範囲：

• T _max （開いているとき）：> 95％; T _min （閉じたとき）：<0.5％

*反射バージョンの減衰範囲：

• T _max （開いているとき）：> 95％; T _min （閉じたとき）：<0.5％（P-pol出力）
• T _max （開いているとき）：> 99％; T _min （閉じたとき）：<0.3％（S-pol出力）

*キューブバージョンの減衰範囲：

• T _max （開いているとき）：> 97％、T _min （閉じているとき）：<0.3％（P-pol出力）
• T _max （開いているとき）：> 99％、T _min （閉じているとき）：<3％（S-pol出力）

仕様

クリアアパーチャ	Ø18 mm
1 / Eの推奨される最大入力ビーム径2	Ø12 mm
帯域幅	±5 nm, up to ±10 on request
最適化	トランスミッション(T) リフレクション(R)
構成	λ/2 Air-spaced or Optically Bonded waveplate + Optically bonded PBS cube
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	From <0.3% to 97% in transmission mode
代表的なアプリケーション	High power pulsed and CW lasers
ダメージしきい値	Up to >10 J/cm² @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
寸法（H x L x W）	56 x 82 x 90 mm
解像度	<7 arcsec/step
最小減衰と最大減衰の間の時間	<0.2 sec
最小減衰と最大減衰の間のステップ	24000
最大動力伝達	Tmax >97% at p-pol output (T) Tmax >99% at s-pol output (R)
最大電力遮断	Tmin<0.3% at p-pol output (T) Tmin<3% at s-pol output (R)

特徴

• 非常に速い開閉時間
• 小さな足跡
• 低分散フェムト秒および高出力レーザーアプリケーションに最適
• 高エネルギー光学結合波長板とIBSコーティングされた高コントラスト薄膜偏光子の光学設計
• 交換可能な光学系
• PC制御ソフトウェアが含まれているスタンドアロンのユーザーフレンドリーなインターフェイスコントローラー
• ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェース、USB、RS232、イーサネット接続

仕様

クリアアパーチャ	Ø8 mm
1 / Eの推奨される最大入力ビーム径2	Ø5 mm
帯域幅	±5 nm, up to ±10 on request
最適化	トランスミッション
構成	λ/2 Optically bonded waveplate + IBS technology High Contrast Thin Film polarizer
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	<0.1% to >99%
代表的なアプリケーション	High power pulsed and CW lasers
ダメージしきい値	Up to >20 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
寸法（H x L x W）	35 x 55 x 60 mm
最小減衰と最大減衰の間の時間	<0.2 sec
最小減衰と最大減衰の間のステップ	14400
解像度	<11.25 arcsec/step

高エネルギー用途向けに4種類のレーザービーム強度減衰器を提供しています。

• CA 8 mm –コンパクトバージョン
• CA 18 mm –マキシ反射/透過バージョン
• CA 18 mm –マキシキューブバージョン
• CA 18 mm –マキシトランスミッションコリニアバージョン

特徴

• ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェース、USB、RS232、イーサネット接続
• レーザービームを調整可能な強度比の2つのs-polビームとp-polビームに分割します
• 超短および高エネルギーレーザーパルス用の低分散光学系
• 他のシステムへの統合に最適
• 0.2秒未満の最小減衰と最大減衰の間の時間

*伝送/コリニアバージョンの減衰範囲：

• T_max （開いているとき）：> 95％; T_min （閉じたとき）：<0.5％

*反射バージョンの減衰範囲：

• T_max （開いているとき）：> 95％; T_min （閉じたとき）：<0.5％（P-pol出力）
• T_max （開いているとき）：> 99％; T_min （閉じたとき）：<0.3％（S-pol出力）

*キューブバージョンの減衰範囲：

• T_max （開いているとき）：> 97％、T_min （閉じているとき）：<0.3％（P-pol出力）
• T_max （開いているとき）：> 99％、T_min （閉じているとき）：<3％（S-pol出力）

仕様

クリアアパーチャ	Ø18 mm
1 / Eの推奨される最大入力ビーム径2	Ø12 mm
帯域幅	±5 nm, up to ±10 on request
最適化	トランスミッション
構成	λ/2 Air-spaced or Optically Bonded waveplate + Thin Film polarizer
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	From <0.5% to >95%
代表的なアプリケーション	High power pulsed and CW lasers
ダメージしきい値	Up to >10 J/cm2> @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
寸法（H x L x W）	56 x 99 x 90 mm
最小減衰と最大減衰の間の時間	<0.2 sec
最小減衰と最大減衰の間のステップ	24000
解像度	<7 arcsec/step
最大動力伝達	Tmax >95% at p-pol output
最大電力遮断	Tmin <0.5% at p-pol output

標準ワットパイロットには、モーター駆動の回転石英λ/ 2位相波長板と、s偏光ビームとp偏光ビームを直交方向に分離する高エネルギー偏光ビームスプリッターキューブが組み込まれています。最大の伝送には純粋なp偏波を選択し、最大の減衰には純粋なs偏波を選択する必要があります。これら2つのビームの強度比は、波長板を回転させることによって継続的に調整されます。
ワットパイロットは、レーザー出力の安定した調整が必要なシステムに不可欠です。スタンドアロンのデバイスの外観にもかかわらず、電動減衰器はコンパクトであり、カスタム光学システムに簡単に統合できます。

特徴

• 速い開閉時間
• ハイパワーバージョンとミディアムパワーバージョンで利用可能
• 反射されたs-polビームと透過されたp-polビームの間の便利な90°の角度
• 無視できるビーム偏差
• 交換可能な光学系
• PC制御ソフトウェアが含まれています
• ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェース

仕様

クリアアパーチャ	12 mm
1 / Eの推奨される最大入力ビーム径2	8 mm
帯域幅	Up to ±10 nm
構成	λ/2 ZO waveplate + High Energy Polarizing Beamsplitter cube
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	Up to 0.5 – 95%
代表的なアプリケーション	Medium and high power CW and pulsed lasers, LDs
ダメージしきい値	>20 J/cm2> @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
寸法（H x L x W）	70 x 91 x 63 mm
最小減衰と最大減衰の間の時間	<3 sec
最小減衰と最大減衰の間のステップ	3900
解像度	<42 arcsec/step

仕様

クリアアパーチャ	Ø18 mm
1 / Eの推奨される最大入力ビーム径2	Ø12 mm
帯域幅	±5 nm, up to ±10 on request
最適化	リフレクション
構成	λ/2 Air-spaced or Optically Bonded waveplate + 2x Thin Film polarizers
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	From <0.3% to >99%
代表的なアプリケーション	High power pulsed and CW lasers
ダメージしきい値	Up to >10 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
寸法（H x L x W）	56 x 99 x 90 mm
最小減衰と最大減衰の間の時間	<0.2 sec
最小減衰と最大減衰の間のステップ	24000
解像度	<7 arcsec/step
最大動力伝達	Tmax >99% at s-pol output
最大電力遮断	Tmin <0.3% at s-pol output

Enhanced Watt Pilotには、モーター駆動の回転石英λ/ 2位相波長板と、s偏光ビームとp偏光ビームを平行方向に分離する1つまたは2つの薄膜偏光子が組み込まれています。透過率を最大にするには純粋なp偏波を選択し、減衰を最大にするには純粋なs偏波を選択する必要があります。分離されたビームの強度比は、波長板を回転させることによって継続的に調整されます。

ワットパイロットは、レーザー出力の安定した調整が必要なシステムに不可欠です。スタンドアロンのデバイスの外観にもかかわらず、電動減衰器はコンパクトであり、カスタム光学システムに簡単に統合できます。

特徴

• 速い開閉時間
• フェムト秒および高出力レーザーアプリケーションに最適
• 2つの平行なp-polおよびs-pol出力ビーム
• 交換可能な光学系
• PC制御ソフトウェアが含まれています
• ユーザーフレンドリーなソフトウェアインターフェース

仕様

クリアアパーチャ	Ø18 mm
1 / Eの推奨される最大入力ビーム径2	12 mm
帯域幅	Up to ±10 nm
最適化	リフレクション or トランスミッション
構成	λ/2 ZO waveplate + 1x or 2x Thin Film polarizers
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	Up to 0.3-99%
代表的なアプリケーション	High power CW and pulsed lasers, LDs
ダメージしきい値	>5 J/cm² @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz; >10 J/cm² @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz on request
寸法（H x L x W）	108 x 91 x 63 mm – リフレクションモード / 105 x 91 x 63 mm – トランスミッションモード
最小減衰と最大減衰の間の時間	<3 sec
最小減衰と最大減衰の間のステップ	3900
解像度	<42 arcsec/step

電動偏光子回転子は、光学部品をその軸を中心に正確に回転させるように設計されています。

• 1インチの波長板またはその他の直径1インチのコンポーネントに対応します。アセンブリは、回転子とベースプレートの2つのメインブロックで構成されており、運動学的に調整可能です。したがって、セットアップにより、角度調整の自由度がさらに高まります。
• サイドプレートには直径1インチの穴があり、ビーム経路への追加の光学部品やチューブの取り付けが簡単になります。

仕様

寸法（H x L x W）	47 x 91 x 63 mm
マックス・スピード	5 turns/min
解像度	41.54 arcsec/step
全回転時のステップ精度	±4 steps
バックラッシュ	±4 steps
移動範囲	360°
典型的なアプリケーション	Automated laser systems

回転する石英λ/ 2位相波長板と、s偏光ビームとp偏光ビームを平行方向に分離する1つまたは2つの薄膜偏光子が組み込まれています。偏光子は、精密な運動学的に調整可能な波長板ホルダーと一緒に取り付けられた特別に設計されたオプトメカニカルホルダーに収納されています。透過率を最大にするには純粋なp偏波を選択し、減衰を最大にするには純粋なs偏波を選択する必要があります。分離されたビームの強度比は、ホルダー内の波長板を回転させることによって継続的に調整されます。

特徴

• 簡単操作の手動設計
• フェムト秒および高出力レーザーアプリケーションに最適
• 2つの平行なp-polおよびs-pol出力ビーム
• 交換可能な光学系

※送信タイプの減衰範囲

• Tmax（開いているとき）：> 95％; Tmin（閉じたとき）：<0.5％

※反射型の減衰範囲

• T_max（開いているとき）：> 95％; T_min（閉じたとき）： <0.5％（P-pol出力）
• T_max（開いているとき）：> 99％; T_min（閉じたとき）：<0.3％（S-pol出力）

仕様

クリアアパーチャ	15 mm
帯域幅	Up to ±20 nm
最適化	リフレクション or トランスミッション
構成	λ/2 ZO waveplate + 1x or 2x Thin Film polarizers
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	Up to 0.3-99 %
代表的なアプリケーション	High power CW and pulsed lasers, LDs
ダメージしきい値	>5 J/cm² @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz
寸法（H x L x W）	89 x 72 x 78 mm – リフレクションタイプ / 87 x 68 x 78 mm – トランスミッションタイプ

超高速バージョンの減衰器は、100fs未満のレーザーパルスを対象としています。回転するアクロマティックλ/ 2位相波長板と、s偏光ビームとp偏光ビームを平行方向に分離する2つの高性能ブロードバンド72°薄膜偏光子が組み込まれています。偏光子は、精密な運動学的に調整可能な波長板ホルダーと一緒に取り付けられた特別に設計されたオプトメカニカルホルダーに収納されています。分離されたビームの強度比は、ホルダー内の波長板を回転させることによって継続的に調整されます。

超高速減衰器には2つの標準化されたタイプがあります。1つは最大透過エネルギー用、もう1つは最大ビーム減衰用です。
特徴

• 簡単操作の手動設計
• 超短パルス高出力レーザーアプリケーション向けの低分散光学設計
• 2つの平行なp-polおよびs-pol出力ビーム
• 交換可能な光学系

仕様

クリアアパーチャ	15 mm
帯域幅	Up to ±50 nm
構成	λ/2 Achromatic waveplate + 2x Broadband (Ultrafast) Thin Film polarizers
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	4-96%, 0.1-70%
代表的なアプリケーション	Ultrafast broadband laser sources with pulse length <100 fs
ダメージしきい値	>100 mJ/cm² @ 800 nm, 100 fs, 1 kHz
寸法（H x L x W）	167 x 72 x 78 mm

大口径減衰器の主な特徴は、直径30mmを超えるクリアアパーチャです。これらには、回転するλ/ 2位相波長板と、s偏光ビームとp偏光ビームを平行方向に分離する1つまたは2つの薄膜偏光子が組み込まれています。偏光子は、精密波長板ホルダーと一緒に取り付けられる特別に設計されたオプトメカニカルホルダーに収納されています。透過率を最大にするには純粋なp偏波を選択し、減衰を最大にするには純粋なs偏波を選択する必要があります。分離されたビームの強度比は、ホルダー内の波長板を回転させることによって継続的に調整されます。

特徴

• 大きな入力アパーチャ
• 簡単操作の手動設計
• フェムト秒および高出力レーザーアプリケーションに最適
• 2つの平行なp-polおよびs-pol出力ビーム
• 交換可能な光学系

仕様

クリアアパーチャ	30 mm
帯域幅	Up to ±50 nm
最適化	リフレクション トランスミッション
減衰範囲（Tmin-Tmax）@ CWL	0.3-99% or 0.1-70% or 4-96%
代表的なアプリケーション	High power and ultrafast lasers
ダメージしきい値	>5 J/cm² @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz, >100 mJ/cm² @ 800 nm, 100 fs, 1 kHz
寸法（H x L x W）	299 x 135 x 70 mm – ウルトラリフレクションタイプ, 147 x 136 x 60 mm – トランスミッションタイプ
構成	λ/2 ZO waveplate + 1x or 2x Thin Film polarizers, λ/2 Achromatic waveplate + 2x Broadband (Ultrafast) Thin Film polarizers

タイプSDの産業用精密調整可能ミラーマウントは、要求の厳しいアプリケーションに優れた性能を提供します。
この設計により、光学部品のストレスのない低歪みの取り付け、優れた保持力、およびポインティングの安定性が保証されます。タイプSDマウントにより、X方向とY方向の両方で正確なミラー調整が可能です。100TPIマイクロネジは、正確な調整と簡単にアクセスできる完全に統合されたロック機構を提供し、優れた角度安定性を保証します。

特徴

• 真空対応
• 超コンパクトなデザイン
• 2つのアジャスター六角駆動設計
• 信頼性が高く使いやすいロック機構
• ZeroDefフレクシャリング（RS）を使用した光学部品の迅速で簡単な交換
• 光学部品の安定した歪みのない取り付け

仕様

機械的角度範囲(*)	± 3.5°
解像度(*)	10 mrad/rev
ポインティング安定性	<2 μrad deviation after extensive temperature cycling on Type SD mount size

(*) タイプSDマウントサイズによって異なります

4LL-OM 4軸光学マウントは、望遠鏡、ビームエキスパンダー、ビームシェイパー、またはその他の重い光学部品を取り付けるための正確で堅牢なソリューションです。

4つの自由度で光学系の調整が可能：

• 角度調整の2つの軸は、最大±4度の範囲で傾けることができます。これは、ねじ山ピッチ250μm（100TPI）の2本のネジで実現されます。
• 横方向調整の2軸は±2mm以内で移動でき、ねじ山ピッチ200μmの2本のネジで駆動します。両方–並進位置と回転位置をロックできるため、重い光学部品の長期安定性が確保されます。これは、スプリングベースのポジショナーよりも4LL-OMコアの利点です。

特徴

• ポジションロック付きの2本のネジ（ネジピッチ250μm（100TPI））を備えた2軸キネマティックマウント。最大±4度の調整範囲
• 2本のネジ（ねじピッチ200μm）で駆動される±2mmの移動範囲を備えた2軸並進ステージ。位置ロック付きの並進ステージ
• マウントの位置決めに便利な5つの取り付け穴（M4）

仕様

細いネジ山	M6 x 0.25
傾斜範囲	±4 deg
感度	3 arcsec
XY変換範囲	±2 mm
XY平行移動感度	1 μm
重量	200 g