超高精密フェムト秒レーザー加工機スライス加工 – 窒化ガリウム（GaN）
フェムト秒レーザー（超短パルスレーザー）は照射箇所のみを分子乖離・コールドアブレーションさせることができるため微細加工に適しています。
このページでは自社 超高精密フェムト秒レーザー加工機にて行った スライス加工 の加工結果を公開しています。
【スライス加工】
- 目的：窒化ガリウム基板の内部に改質層を⽣成し、基板を上下⽅向に分離できるようにする
- 素材：窒化ガリウム（GaN）基板、サイズ 10mm × 10mm、t = 0.35mm
- 設備：空間位相変調器（LCOS-SLM）、対物レンズ
- 方法：ステージ動作によりレーザーを等ピッチで照射
- 結果：基板の厚み中央に改質層を生成
【加工動画】
【加工結果】
レーザー照射前素材<クリックで拡大表示>
レーザー照射後素材<クリックで拡大表示>
基板の横面画像<クリックで拡大表示（位置データ付き）>
超高精密フェムト秒レーザー加工機
-Femto-pro-
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