Deep UV Laser for Mask and Reticle Inspection
Deep UV Laser for Mask and Reticle Inspectionとは
Deep UV Laser for Mask and Reticle Inspection（マスク・レチクル検査用深紫外線レーザー）とは、半導体製造工程で用いられるフォトマスク（またはレチクル）の欠陥を検出・検査するために特別に開発・使用される、深紫外線（DUV）域の波長を持つレーザーのことです。
半導体回路の線幅が非常に微細化している現代において、DUVレーザーは高解像度かつ高精度な欠陥検査に不可欠な技術となっています。
■Deep UV Laser for Mask and Reticle Inspectionのメーカー
- Coherent
- Nireco
- OXIDE Corporation
- IPG Photonics
- Nikon
- UVC Photonics
- Xiton Photonics
- Anshan Ziyu Laser Technology
- Advanced Optowave Corporation