レーザーミラー Laser Mirros
エキシマレーザーキャビティ光学
Excimer Laser Cavity Optics
仕様
| 項目 | 数値 |
|---|---|
| 材料 Material | VUV CaF2 |
| 並列処理 Parallelism | < 3 arc min. |
| クリアアパーチャー Clear Aperture | > 80% of central dimension |
| 面取り Chamfer | 0.3 mm ´ 45° |
| 表面図 Surface Figure | l/10 at 632.8 nm |
| 表面品質 Surface Quality | 20-10 scratch-dig |
| パワー Power | Up to 1-4 J/cm2 |
エキシマレーザーミラー ArF (193nm) & KrF (248 nm)
Excimer Laser Mirrors ArF (193nm) & KrF (248 nm)
仕様
| 項目 | 数値 |
|---|---|
| 材料 Material | VUV CaF2, UV Fused Silica |
| 並列処理 Parallelism | < 3 arc min |
| クリアアパーチャー Clear Aperture | > 85% of central dimension |
| 面取り Chamfer | 0.3 mm ´ 45° |
| 表面図 Surface Figure | l/10 at 632.8 nm |
| 表面品質 Surface Quality | 20-10 for VUV CaF2 |
| 10-5 for UV Fused Silica | |
| パワー Power | Up to 1 J/cm2, ArF |
| Up to 4 J/cm2, KrF |
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