ウェハと基板
フォトリソグラフィーマスク用 超薄石英ウェハ
- 材質：高純度溶融石英
- 表面処理：研磨
- 許容差：±0.05 mm
- 用途：フォトリソグラフィーマスク
仕様
| 材質 | サファイア、石英ガラス、Schott Borofloat 33、炭化ケイ素 |
|---|---|
| OH含有量 | <100 ppm |
| 直径 | 100 mm、150 mm、200 mm、カスタマイズ対応 |
| 厚さ | 500 μm、625 μm、カスタマイズ対応 |
| エッジ | 32.5 mm、ノッチ、カスタマイズ対応 |
仕様
| 材質 | サファイア、石英ガラス、Schott Borofloat 33、炭化ケイ素 |
|---|---|
| OH含有量 | <100 ppm |
| 直径 | 100 mm、150 mm、200 mm、カスタマイズ対応 |
| 厚さ | 500 μm、625 μm、カスタマイズ対応 |
| エッジ | 32.5 mm、ノッチ、カスタマイズ対応 |