フェムト秒レーザー用低分散超高速ミラー ｜ Femtoline Low GDD Ultrafast Mirrors
| 基板 | |
|---|---|
| 材質 | UV grade Fused Silica or BK7 glass |
| S1 表面平坦性 | λ/10 at 633 nm |
| S1 表面品質 | 20-10 scratch & dig (MIL-PRF-13830B) |
| S2表面品質 | Commercial polish |
| 直径許容差 | +0.00 mm-0.12 mm |
| 厚み許容差 | ±0.25 |
| ウエッジ | <3 min |
| コーティング | |
|---|---|
| テクノロジー | Electron beam multilayer dielectric or Ion Beam Sputtering |
| 接着性及び耐久力 | Per MIL-C-675A. Insoluble in lab solvents |
| クリアーアパーチュアー | Exceeds central 85% of diameter |
| コーティング | Hard dielectric High Reflection R>99.5% |
| Designed for Average Polarization | R=(Rs+Rp)/2 |
| レーザーダメージしきい値 | >100 mJ/cm2, 50 fsec, 800 nm typical |
| コーティング表面平坦性 | λ/10 at 633 nm over clear aperture |
| 入射角 | 0 or 45±3 degrees |